©2020 IFU-0100 / rev3
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1.
用水流穩定的溫自來水（
16.9°C
至
18.9°C
）逐一沖洗每
個組件，
直至清除明顯的污染物。這一過程應持續
1-2
分鐘。
2.
按照清潔劑製造商的說明製備酵素
pH
中性洗滌劑溶液和
溫自
來水（
25°C
至
35°C
），注入超音波清洗器（超音波
振盪器），將每
個組件放入清洗器，超音波處理
10
分鐘。
3.
在一個容量足夠大、能夠浸泡每個組件的清洗容器內，使用
按照
洗滌劑製造商的說明製備的酵素
pH
中性洗滌劑溶液
和溫自來
水（
25°C
至
35°C
）製備洗液。
4.
將每個組件轉移到手動洗滌容器內，並完全浸沒在步驟
3
中製
備的清潔溶液中。
5.
在浸沒狀態下，使用軟尼龍刷刷洗每個組件，清除一切可見
的污
染物和碎片，直到看起來很清潔，要特別注意難以清
潔的區域，
如裂縫和關節。這一過程應持續
1-2
分鐘。
6.
用流動的冷去離子水（
17°C
至
21°C
）沖洗
30-60
秒，
直至無可見
的汙物殘留。
7.
使用乾淨的、吸水的、少絨毛軟布擦乾每個組件上多餘的沖
洗水。
10.2
自動清潔指示
注意：僅能使用根據
ISO 15883
驗證之洗潔器
/
消毒器。自動清
洗並不適用於主臂。自動清洗僅適用於桌鉗及成像頭夾持器。
根據以下步驟執行預清潔以移除總體汙染物：
1.
使用一酵素
pH
中性洗滌劑來製備一清洗溶液，於一裝有自
來水
(
攝氏
27
至
33
度
)
之清洗容器使用該洗滌劑製造商所建議
之最小濃度。
2.
浸入並泡入清洗溶液至少
1
分鐘。
3.
在仍浸泡時，以一軟尼龍刷毛的刷子刷洗至少
4
分鐘來移除
可見之污物，直到無可見之污物。
4.
以流動的去離子冷水
(18.5°C
至
20.2°C)
沖洗各個元件至
少
30
秒。
5.
根據製造商之指示，將諸元件放至清洗器
/
消毒器中。
6.
將諸元件安裝至曲線表面及面向下之插管以防止水份匯集。
7.
依據製造商指示進行清洗器
/
消毒器循環。
