Izvle
č
ek: podrobnosti si oglejte v navodilih za uporabo/listih s podatki uporabljenih senzorjev
1)
DrägerSensor
195
1)
Tehni
č
ni priro
č
nik, navodila za uporabo/podatkovni listi uporabljenih senzorjev in programska oprema Dräger CC-Vision za Dräger X-am
5600
lahko dobite na spletni strani izdelka X-am
5600
na
naslednjem
naslovu: www.draeger.com. Glejte tudi priložena navodila za uporabo in podatkovne liste uporabljenih senzorjev.
XXS O
2
XXS H
2
S
XXS H
2
S LC
XXS H
2
HC
Princip merjenja
elektrokemi
č
ni
elektrokemi
č
ni
elektrokemi
č
ni
elektrokemi
č
ni
Nastavitveni
č
as izmerjene vrednosti t
0...90
10
sekund
15
sekund
18 sekund
20
sekund
Nastavitveni
č
as izmerjene vrednosti t
0...50
6 sekund
6 sekund
6 sekund
11 sekund
Obmo
č
je meritev
0 do 25
vol.-%
0 do 200 ppm H
2
S
2)
2)
Certificirano za 1 do 100 ppm.
od 0 do 100 ppm H
2
S
3)
3)
Certificirano za 0,4 do 100
ppm.
0 do 100 %UEG
ali
0 do 4 vol.-%
Spodnja meja obmo
č
ja meritev (EN
45544)
– – –
1 ppm
0,4
ppm
– – –
Odstopanje ni
č
elne to
č
ke (EN 45544)
– – –
2 ppm
0,4 ppm
0,02
vol.-%
Lezenje naprave
– – –
1 % izmerjene
vrednosti/mesec
1 % izmerjene
vrednosti/mesec
4 % izmerjene
vrednosti/mesec
Č
as segrevanja
5 minut
5 minut
5 minut
60
minut
Vpliv senzorskih strupov Žveplovodik H
2
S,
10 ppm: Halogenirani ogljikovodiki, težke kovi-
ne, snovi, ki vsebujejo silikone in žveplo ali ki
polimerizirajo:
– – –
– – –
– – –
– – –
Linijska napaka
0,3
vol.-%
2 %
izmerjene vrednosti
2 %
izmerjene vrednosti
70
%UEG:
4 %UEG
> 70
%UEG:
6,5 %UEG
Standardi
(merilna funkcija za protieksplozijsko zaš
č
ito ter
merjenje pomanjkanja kisika in presežka kisika
ter strupenih plinov,
DEKRA EXAM GmbH, Essen, Germany:
BVS 10 ATEX E 080X, PFG 10 G 001 X
EN 50104
4)
(merjenje
pomanjkanja in presežka
kisika)
EN 50271
4)
Na merilne signale lahko vplivajo v negativno smer etan, eten, etin, ogljikov hidrid in vodik. Brez merjenja O
2
v heliju.
EN 45544-1
5)
EN 45544-2
EN 50271
5)
Na merilne signale lahko aditivno vplivajo žveplov dioksid, dušikov dioksid in vodik, v negativne smeri pa lahko vpliva klor.
EN 45544-1
5)
EN 45544-2
EN 50271
EN
60079-29-1
6)
EN 50271
6)
Na merilne signale lahko aditivno vplivajo Ethne, dušikov monoksid in ogljikov monoksid. Pove
č
ana koncentracija vodika v razponu merjenja XXS H
2
HC lahko povzro
č
i lažne alarme skozi dodatni vpliv
pri XXS H
2
S in pri XXS CO, enako tudi skozi negativni vpliv pri XXS O
2
.
Pre
č
na ob
č
utljivosti
7)
7)
Tabela pre
č
ne ob
č
utljivosti je v navodilih za uporabo oz. listu s podatki ustreznega senzorja.
obstaja
obstaja
obstaja
obstaja
Содержание Drager X-am 5600
Страница 163: ...162 O2 1 Bump Test 21 O2 A1 A1 A1 1 2 OK A2 Dr ger X am 5600 A1 O2 A2 O2 A1 A2...
Страница 228: ...227 O2 Bump Test 21 Vol O2 A1 A1 A1 A1 A2 OK A2 OK A1 O2 A2 O2 A1 A2...
Страница 267: ...266 O2 EC Bump Test Bump Test 21 Vol O2 A1 A1 A1 A1 LED A2 LED OK A2 LED IR Dr ger X am 5600 A1 O2 A2 O2 A1 A2...
Страница 289: ...288 Dr gerSensor U JHU U JHU DP U JHU 9LVLRQ DP ZZZ GUDHJHU FRP 2 Dr gerSensor Dr ger U JHU 7 7...
Страница 292: ...291 9LVLRQ DP 7 67 7 67 67 7 7 7 7 7 U JHU DP 2 m EW m 7 67 6 2 2 2...
Страница 293: ...292 9RO 2 U JHU DP 5 2 2...
Страница 294: ...293 67 7 67 7 67 2 U JHU 67 7 2 2 7 67 9LVLRQ 2 U JHU 8 5 2 U JHU 5 2 U JHU 6 2 U JHU 9LVLRQ 1...
Страница 297: ...296 2 5 5 YRO 5 2 5 2 YRO 2 YRO 2 SSP 6 SSP YRO U JHU 2 2 9RO 6 SSP 2 SSP 2 2 PLQ 2 2 2 2...
Страница 298: ...297 1 1 2 6 2 5 2 U JHU U JHU U JHU U JHU U JHU...
Страница 302: ...301...
Страница 303: ...302...