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AVOID EXPOSURE – LASER RADIATION
IS EMITTED FROM THIS APERTURE
EXPOSITION DANGEREUSE – UN RAYONNEMENT
LASER EST ÉMIS PAR CETTE OUVERTURE
LASERSTRAHLUNG
NICHT IN DEN STRAHL BLICKEN
LASER KLASSE 2
DIN EN 60825-1:2008-05
Max. Leistung (peak):
Impulsdauer:
Wellenlänge:
RADIAZIONE LASER
NON FISSARE IL FASCIO
APARRECCHIO LASER DI CLASSE 2
EN 60825-1:2007
Potenza max. (peak):
Durata dell'impulso:
Lunghezza d'onda:
LASER RADIATION
DO NOT STARE INTO BEAM
CLASS 2 LASER PRODUCT
EN 60825-1:2007
Maximum Output (peak):
Pulse duration:
Wavelength:
RAYONNEMENT LASER
NE PAS REGARDER DANS LE FAISCEAU
APPAREIL À LASER DE CLASSE 2
EN 60825-1:2007
Puissance max. (crête):
Durée d`impulsion:
Longueur d`onde:
RADIACIÓN LÁSER
NO MIRAR FIJAMENTE AL HAZ
PRODUCTO LÁSER DE CLASE 2
EN 60825-1:2007
Potencia máx. (peak):
Duración del impulso:
Longitud de onda:
RADIAÇÃO LASER
NÃO OLHAR FIXAMENTE O FEIXE
EQUIPAMENTO LASER CLASSE 2
EN 60825-1:2007
Potência máx. (peak):
Período de pulso:
Comprimento de onda:
LASER RADIATION
DO NOT STARE INTO BEAM
CLASS 2 LASER PRODUCT
IEC 60825-1:2007
Complies with 21 CFR 1040.10
Maximum Output (avg):
Pulse duration:
Wavelength:
䉏⏘戟⺓
▎䦃展⏘㧮
伊䉏⏘ℶ❐
GB7247.1-2012
㦏⮶戢⒉᧤⽿⋋᧥
厘⑁㖐兼㢅梃
㽱栎
1,8 mW
<150 μs
655 nm
1,8 mW
<150 μs
655 nm
1.8 mW
<150 μs
655 nm
1,8 mW
<150 μs
655 nm
1,8 mW
<150 μs
655 nm
1,8 mW
<150 μs
655 nm
<1 mW
<150 μs
655 nm
1.8 mW
<150 μs
655 nm
50120562-02
Содержание 50116192
Страница 2: ...2 1 A B C A B C A B C BCL 3xxi S R1 102 H BCL 3xxi S R1 100 H BCL 3xxi O 100 H ...
Страница 4: ...4 2 BCL 3xxi S R1 102 H ...
Страница 5: ...5 2 BCL 3xxi S R1 100 H ...
Страница 6: ...6 2 BCL 3xxi O 100 H ...
Страница 7: ...7 3 MK 3xx ME 3xx MS 3xx MA 100 BCL 3xxi KB 301 3000 ...